iPHEMOS-MP倒置發(fā)射顯微鏡是一種半導體故障分析系統(tǒng)，旨在通過檢測發(fā)出的光和熱來識別故障位置。

iPHEMOS-MP利用其倒置型設計的優(yōu)勢，在探測時對半導體器件進行背面分析，并結(jié)合LSI測試儀順利運行各種類型的分析。

iPHEMOS-MP包括激光掃描系統(tǒng)，用于獲取高分辨率的圖案圖像。

通過選擇針對分析方法優(yōu)化的檢測器，可以執(zhí)行不同類型的分析，例如排放分析，熱分析和IR-OBIRCH分析。 當與用于背面觀察的專用探測器結(jié)合使用時，iPHEMOS-MP支持從晶圓到單個芯片的靈活測量。

產(chǎn)品特點：

- 可安裝兩個超高靈敏度攝像頭：

用于發(fā)射分析和熱分析或可見光和近紅外光的不同檢測波長范圍的覆蓋范圍允許容易地選擇與樣品和失效模式匹配的分析技術。

- 最多可安裝3個波長的激光器和用于EOP的探頭光源

- 鏡頭切換轉(zhuǎn)塔最多可以加裝10種不同鏡頭

- 適用于各種樣品的光學平臺

光學平臺的工作范圍

X +/- 50mm

Y +/- 50mm

Z +/- 20mm

*由于使用探針并干擾樣品臺或安裝NanoLens，工作范圍可能比此值窄。

產(chǎn)品配置可選：

● 激光掃描系統(tǒng)

● 高靈敏度近紅外相機進行光發(fā)射分析

（根據(jù)客戶樣品特點對不同波長范圍的光發(fā)射探測可以選配不同型號相機，InGaAs, C-CCD, Si-CCD, Emmi-X）

● 高靈敏度中紅外Thermal相機進行熱分析
● 激光誘導阻值變化分析（OBIRCH）

● D-lock in

● Thermal Lock in

● EOP/EOFM
● Tilt Stage
● Nano Lens 進行高分辨率、高靈敏度分析
● Navigation功能
● 連接測試機進行動態(tài)分析
● Laser Marker